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  • 排序 学院 发文量
    1 机械与运载工程学院 118
    2 物理与微电子科学学院 103
    3 岳麓书院 101
    4 化学化工学院 97
    5 数学与计量经济学院 50
    6 材料科学与工程学院 45
    7 土木工程学院 42
    8 建筑学院 40
    9 经济与贸易学院 38
    10 电气与信息工程学院 33
  • 排序 学院 发文量
    11 信息科学与工程学院 30
    12 工商管理学院 28
    13 生物学院 18
    14 法学院 15
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    19 经济与管理研究中心 6
    20 马克思主义学院 5
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物电院:超衍射极限激光三维纳米光刻技术
学术地点 理工A-228 主讲人 甘棕松,华中科技大学教授
讲座时间 2018年9月17日(周一)19:00

主题:超衍射极限激光三维纳米光刻技术(Three-dimensional nanolithography by overcoming the diffraction limit)

主讲人:甘棕松,华中科技大学教授

时  间 : 2018年9月17日(周一)19:00

地  点: 理工A-228

联系人:冯页新

承办单位:物理与微电子科学学院


讲座摘要:常规单光束激光制造技术具有优异的三维制造能力,是微纳尺度下普遍使用的三维结构制造技术。然而由于存在远场光学衍射极限,使用该技术制造仅能实现亚波长量级的分辨率,因而并不具备100纳米尺度下三维纳米结构的制造能力。常见的电子束刻蚀,离子束刻蚀,深紫外光刻等二维制造技术,具有卓越的分辨率,然而使用这些技术制造不具备天然的三维纳米制造能力。如果能够突破单光束激光制造技术中存在的衍射极限,使之实现与电子束刻蚀,离子束刻蚀,深紫外光刻等同等的制造分辨率,则能够发展出一种集三维制造能力与高分辨于一体的新型三维纳米制造技术。本报告介绍实现远场超衍射极限三维纳米制造在集成电路光刻制造领域中的应用。


主讲人简介:甘棕松,男,2008年本科毕业于南开大学物理学专业, 2013年博士毕业于澳大利亚斯威本科技大学,现在华中科技大学武汉光电国家研究中心任教授、博士生导师,中国科学院上海光机所兼职研究员。甘教授长期从事超衍射极限光学技术研究,实现了远场突破光学衍射极限到纳米分辨率(单线宽9 nm,线中心到中心间距52 nm)的激光三维纳米制造,创造了激光三维制造领域单线宽和分辨率的世界记录;解决了激光制造领域长期以来存在的分辨率和三维制造能力难以调和的重大问题;解决了三维纳米制造技术中存在的结构尺寸越小,力学强度越弱而导致结构整体坍塌的问题等。基于上述研究成果,近年来以第一作者在Nature Communication、Science Advances、Applied Physics Letters、Optics Express等国际权威期刊共发表学术论文10余篇,其中ESI高被引用论文1篇,发明专利获得美国脸谱公司支付技术转让费。2014年,荣获维多利亚州优秀青年称号(Victoria fellowship),2017年获湖北省楚天学子称号。曾主持澳大利亚科学及工业教育基金(SIEF)金额为41.1万澳元项目(面向低能耗大数据中心应用的超高密度PB存储光盘),现主持和参与国家自然科学基金面上项目各1项。


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